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Lapping / polishing 是經(jīng)由游離顆粒(free-abrasive)作用于磨盤與平面工件之間，施以適當(dāng)之壓力于工件，而對工件所產(chǎn)生的無方向性紋路表面切削效果，當(dāng)研磨顆粒變細(xì)與研磨盤 ( 拋光皮 ) 配合，則工件表面可達(dá)鏡面效果，以研磨動作而言單面機(jī)為2ways。
隱藏域元素占位
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拋光液廠家淺談拋光液的性能對拋光后工件表面質(zhì)量的影響
拋光液的性能直接影響到拋光后工件的表面質(zhì)量，是平面研磨拋光加工的關(guān)鍵要素之一。拋光液一般包括超細(xì)的固體磨粒(如納米A120:及Si0:磨粒等)、表面活性劑以及氧化劑和穩(wěn)定劑等幾部分，其中固體磨粒產(chǎn)生切削作用，去除發(fā)生化學(xué)變化需要切除的部位，氧化劑產(chǎn)生化學(xué)腐蝕溶解作用，溶解切屑。在拋光過程中，拋光液中磨粒的種類、形狀、大小、濃度、化學(xué)成分、PH值、粘度、流速和流動的途徑都會對去除速度產(chǎn)生影響。
隱藏域元素占位
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最原始的定義是指在一塊很平坦的定盤上（如花崗石、鑄鐵…等，都叫LAP），把加工物放在上面，均勻地移動，使它因摩擦而產(chǎn)生一個很好的平面，它就是LAPPING，只是手工隨著機(jī)械加工業(yè)的神速進(jìn)展，就發(fā)展出單面LAPPING機(jī)及雙面精磨機(jī)，這幾年又配合手機(jī)加工行業(yè)蓬勃發(fā)展，又發(fā)展出很多專業(yè)用途的磨精度機(jī)器。
隱藏域元素占位
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平面拋光機(jī)在拋光過程中如何使用拋光蠟和拋光輪平面拋光機(jī)拋光過程中，很多客戶都反映不會正確的使用拋光輪和拋光蠟，于是我公司技術(shù)人員將通過本網(wǎng)站教會大家簡單的使用辦法。
隱藏域元素占位
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